原子层沉积系统

系统特点：样品台标准4英寸，兼容小尺寸，可根据使用需求定制、基片加热温度室温-350℃（可选配高温）、前驱体输运系统标准2路液态前驱体管路，可预留、前驱体管路温度室温-150℃、源瓶加热温度室温-150℃、ALD阀Swagelok快速高温ALD专用阀、本底真空＜5*10-5Torr，高性能机械泵+分子泵、载气系统N2或者Ar、生长模式高速沉积模式和停留生长模式、等立子体源0-300w 感应耦合远程等离子体（可选）、等离子体放电气源标准2-4路，可选配、控制系统PLC+触摸屏