IBE离子束刻蚀系统

系统特点：样片放置：旋转式杨平托盘、反应腔室：304不锈钢、氩离子源：160mm，考夫曼型离子源、载样基台：具备旋转功能，工业电机、阀门系统：高真空插板阀（可进行位置预设控压）、真空系统：600L/s分子泵，机械泵组成、真空测量：薄膜规，压力传感器、温控系统：循环水冷、气路系统：标配1路气体，高精度流量计，可根据需求定制多路气体、界面操作：触摸屏操作，菜单自动/手动操作、控制系统：工控机+工业办卡、安全控制：异常报警、刻蚀材料：金属等适用性材料、真空性能：本底真空＜5.0x10-4Pa、设备尺寸：可根据需求定制化生产