ICP系列高密度等离子刻蚀系统

系统特点：6英寸向下兼容，可扩展到8英寸至12英寸，深硅刻蚀工艺、硅基材料/蓝宝石/金属/GaN等、自动化工艺、腔室控温、自动化传片预腔室、可根据被刻蚀样品进行测试及定制特殊需求。