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微纳加工设备-PECVD等离子增强化学气相沉积系统
넳 넲

PECVD等离子增强化学气相沉积系统

系统特点：多层匀气结构，加热温度60-400℃，600℃可选，金属密封嵌套腔室，气路SiH4/NH3/N2O/CH4等
ꄴ前一个： 无
ꄲ后一个： Sputter系列磁控溅射台